噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基座上，然后在基底上得到想要的物質結構。本設備是由我公司自主研發的一款超聲噴霧熱解設備，它配有40KHz 130W的超聲波霧化器、PID控溫的加熱襯底基板、高精度蠕動泵以及精密程控的步進電機移動機構。本設備通過整合設計能夠準確控制溶液出液量、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數，同時基底溫度也可以進行控制，能夠滿足您的各種試驗需求。

此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應用中已有相當長的歷史。現在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得到廣泛的應用。

超聲波熱解噴涂機技術參數：

產品名稱	自動超聲波熱解噴涂
產品型號	CY-TSC-150×150-T
控制方式	自動觸摸屏控制
樣品尺寸	2.54mm*2.54mm
沉積膜	10cm*10cm FTO透明電極
供電電壓	AC110V，60Hz
zui大功率	3.5KW （含壓縮機+蠕動泵約1.5KW）
超聲波霧化器	50KHz 30W
液體粘度	1-50mPa·s（cP）
噴頭行程	X-Y軸 *大180mm
移動速度	0-100mm/s （x軸方向）  0-100mm/s（Y軸方向）
加熱襯底基板	200mm X 200mm
zui高溫度	500℃
控溫方式	AI-PID 控溫
排氣裝置	該設備設有排氣裝置，以便分解后的氣體可以從排氣口裝置排出
注射方式	大流量注射泵
通信協議	Windows系統，默認通信端口為RS485或RS232